Редактирование: ASML (раздел)

== Продукция ==

Основные серии литографов ASML:

* 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм
* 1989: PAS 5000, разрешение около 0.5 мкм, точность до 100 нм
* 1990-е: PAS 5500, разрешение 400-90 нм, точность до 100-12 нм
* 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100-38 нм, точность до 20-2 нм
* 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE,разрешение 38-19 нм, точность лучше 3 нм

=== Российские пользователи ===
 
В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т

Среди российских пользователей ASML также можно отметить НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С.

Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе Микрон (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 135 пластин в час)